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  • XWS-30—紧凑型

    XWS-30—紧凑型

    ISTEQ’s XWS-30 光源是专门为那些需要超紧凑、低散热保持等离子高亮度的宽带光源的客户而开发的产品特点:•一个紧凑的 “all in one” 的概念光源•非常紧凑: 110x110x120mm, 没有额外的冷却•光谱亮度: up to 40 mW/(mm2·sr·nm)•输出配置: Free space or FCU•全系统控制通过USB-RS485适配器笔记本/PC机

  • Hyperchromator—可调谐

    Hyperchromator—可调谐

    Hyperchromator通过使用孔径高达f/1.5的镜面来收集光,利用了点离子体光源的优势,为了确保最大的光通量而不限制进口狭缝。Hyperchromator为需要快速和可调点光源的应用而优化。产品特征:•不同的配置可选择•快速光学, up to f/1.5 for highest throughput•均匀的光输出分布•匹配ISTEQ XWS-30•宽调谐范围:从DUV到NIR•无输入狭缝•

  • XWS-Dual port—双光束

    XWS-Dual port—双光束

    产品特征:•每个端口参数相同的双光束光源•基于XWS-65开发•光谱亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm)•高稳定性: STD<0.15%FCU 版本:•SMA or FC 光纤接口•每根光纤输出功率可达0.5W

  • XWS-X—高亮

    XWS-X—高亮

    ISTEQ的XWS-X 是专门为那些需要高强度的、高紫外光源的客户开发的。产品特点:•与XWS-65相比,整个光谱范围的亮度明显更高•最大光谱亮度up to 120mW mW/(mm2·sr·nm)•与 XWS-65相比,在250nm以下的紫外波段的亮度提高•输出配置: Free space or FCU•双端口配置•高功率配置,输出亮度up to 200mW/(mm2·sr·nm)

  • XWS-R—高功率

    XWS-R—高功率

    光谱特点:•高功率版本:与默认XWS-65相比,输出功率/亮度几乎翻倍•光谱亮度: up to 90 mW/(mm2·sr·nm)•可在两种情况下完成:自由空间和FCU配置•FCU版本的光纤输出功率高达1W

  • XWS-65—基础款

    XWS-65—基础款

    ISTEQ’s XWS-65 光源产品已经应用于各种应用,包括光谱学,高分辨率显微镜,薄膜测量,表面测量等。这款光源基于最前沿的技术,已经在美国和欧盟注册了专利。主要优点:• 连续激光脉冲放电• 宽光谱范围: 190 – 2500 nm• 高光谱亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm)• 高时空稳定性: STD<0.15%• 高使用寿命 (由于electrodeless ope

  • 反射式衍射光学元件

    反射式衍射光学元件

    适用于10KW以上高功率激光器的光束整形器:1. 适用于10 kW以上的大功率激光器;2. 可根据每个客户的要求进行定制设计和制作:可以根据波长,入射光束形状和大小以及输出光束形状进行定制设计。为什么反射型光束整形器推荐用于高功率应用:—背面直接水冷;—即使入射激光功率超过10 kW,也能塑造目标光束形状;—与透射型DOE不同,因为不会吸收光,它不会产生光束畸变。

  • KTN晶体

    KTN晶体

    在现有材料中,具有最大的电光(EO)效应的光学晶体:通过利用电光(EO)的作用,可以进行高速光学控制。当应用于光学扫描仪时,它可以以传统技术无法实现的方式进行位移跟踪。 特点通过使用高EO效应(Kerr效应),可以制造小型高速光学扫描仪(光学偏光镜),可变焦距透镜或高效相位调制器(光学开关)。

  • KTN偏转器

    KTN偏转器

    KTN偏振器的超高速扫描和任意扫描将实现新的技术思想 优点/功能:与传统产品相比,运行速度高出100倍以上由于光是被电子转移和外部电场控制,而没有任何机械运动部件,因此传统技术不能支持的高速操作成为了可能。例如,当将其应用于激光雷达时,与传统技术相比,将可能实现更高速度的目标识别。 与传统产品相比,可以将设备尺寸减小到小其的1/100因为它是在晶体上形成的电极的简单结构,并且芯片尺寸很小,几平方毫

  • 变焦透镜

    变焦透镜

    通过电光激活,最适合与生物相关的快速激光显微成像。优点1. 超快通过控制KTN晶体的电压,焦距可以在微秒内调节,这比传统的变焦镜头快100倍。 聚焦机制:概念图焦距偏移性能KTN可变透镜用作凸透镜,焦距与所提供电压的平方成正比。当施加1 kV时,使用实际介电常数的透镜屈光力的典型值为1.0 m -1。 电压vs焦点偏移

  • 可见光、全帧CCD相机 ELSE i系列

    可见光、全帧CCD相机 ELSE i系列

    公司介绍:成立于2008年的greateyes,是以德国柏林洪堡大学的技术为基础,迅速发展成为国际知名的先进探测器生产企业。如今,其科研与工业客户群体已遍布多个国家。greateyes开发、生产并销售高性能科学相机。其作为精确探测器,被广泛应用于成像与谱学应用领域。同时,greateyes公司也生产用于太阳能产业的电致荧光与光致荧光检测系统。 产品介绍:greateyes基于独特的平台概念,提供用

  • 可见光、全帧CCD 相机 ELSEs 系列

    可见光、全帧CCD 相机 ELSEs 系列

    公司介绍:成立于2008年的greateyes,是以德国柏林洪堡大学的技术为基础,迅速发展成为国际知名的先进探测器生产企业。如今,其科研与工业客户群体已遍布多个国家。greateyes开发、生产并销售高性能科学相机。其作为精确探测器,被广泛应用于成像与谱学应用领域。同时,greateyes公司也生产用于太阳能产业的电致荧光与光致荧光检测系统。 产品介绍:greateyes基于独特的平台概念,提供约

  • 光学浮区炉(磁流密封型)

    光学浮区炉(磁流密封型)

    Feature :Optical floating zone furnaces (Magnetic Liquid sealed) are designed for keeping the high-quality atmospheric condition by using a magnetic liquid seal kits from high vacuum to high pressure

  • 光学浮区炉(O型圈密封型)

    光学浮区炉(O型圈密封型)

    特征:日本CSC公司成功研制了一种四镜光学浮区炉.熔区水平的面的温度分布及其均匀,非常适合于用于生长高质量的单晶.FZ-T-10000-H-VII-VPO-PC(1) 通过使用四镜加热系统在熔区水平面获得了相当均匀的温度分布 (2) 提供多种类型的灯,以满足多种材料的应用 卤素灯: 根据客户制备的材料不同,有各种类型的灯供客户选择,其中包 括 (150W,300W,5

  • 光学浮区炉零配件

    光学浮区炉零配件

    供应日本CSC光学浮区炉各种零配件我司有常备易损易耗件1500W卤素灯现货

  • 离子束刻蚀设备

    离子束刻蚀设备

    离子束刻蚀的原理是把氩气等惰性气体充入离子源放电室,并使其电离形成等离子体,然后由栅极将离子呈束状引出并加速,具有一定能量的离子束进入工作室,射向固体表面,撞击固体表面原子,使材料原子发生溅射,达到刻蚀目的,纯属物理过程。基本功能1. 三维结构刻蚀:离子束刻蚀设备可用于刻蚀任何材料的三维结构,刻蚀陡直度优于85度,刻蚀精度可做到小于10nm。2. 材料表面清洗:采用考夫曼离子源产生的准直离子束对样

  • 双离子束溅射沉积镀膜设备

    双离子束溅射沉积镀膜设备

    离子束溅射沉积镀膜原理是利用离子源产生的高能离子束轰击置于高真空中的靶材,使靶材原子溅射直接沉积在衬底表面上,在衬底表面重新组合形成薄膜,该镀膜技术是纯物理过程,无环境污染、无交叉污染。基本功能1. 可用于在各种衬底材料上溅射沉积各种金属、合金、化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜,也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜;2. 与CVD和PVD等其他薄膜技术相比,具有薄膜材料最广

  • 反应离子刻蚀设备

    反应离子刻蚀设备

    反应离子刻蚀原理是将通入刻蚀室的工艺气体分子解离,产生等离子体。一方面由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应,另一方面由于射频自偏压作用,等离子体中的正离子对被刻蚀材料表面进行物理轰击,从而以物理化学相结合的方法达到材料表面刻蚀的目的。基本功能1. 该设备采用平板电容放电形式,将通入刻蚀室的工艺气体分子解离,产生等离子体。一方面由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应

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成都芯光光电科技有限公司是一家专业技术服务公司,从事科学技术相关领域内与科研、生产等环节密切相关的光电、材料分析、材料制备、测量仪器等设备的销售、 装调和售后服务。业务范围涵盖国内各著名高校、中国科学院所属各研究所、信息产业部所属各研究所、航空工业总公司所属各研究所等系统内的研究机构等。我们不仅为用户提供国外原厂生产的各类标准产品,而且努力在服务过程中从领域内的用户处时刻更新自己的技术知识,保持对领域内新技术知识的了解,结合仪器设备的技术特点,按照用户的不同应用要求,提供准确、先进的各种仪器系统解决方案,包括设计、集成等。

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